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  • 次微米計畫的讀音 次微米計畫的意思

    辭典解釋次微米計劃  cì wéi mǐ jì huà     次微米指小于一微米的半導體制作技術。民國七十九年,政府為建立完整之半導體產業,期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委托工研院電子所主導,并撥列經費以規劃籌建次微米實驗室,做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月,次微米計劃研發工作正式展開,為期五年(西元一九九○至一九九五年)?。整體計劃目標如下:(1)? 建立一座八吋晶圓,Class 0.1 (0.3微米)?的世界一流水準的實驗室,以提供開發次微米制程技術。(2)? 在一九九五年以前使中華民國具備:a. 0.7/0.5微米整合制程技術。b. 0.35 微米制程模組技術。(3)? 建立超潔凈技術及八吋晶圓量產型技術。(4)? 建立中華民國極大型積體電路(ULSI)?研究發展能力,并對世界IC研究發展的領域有所貢獻。
    • wéi
    • huà

    “次微米計畫”的讀音

    拼音讀音
    [cì wéi mǐ jì huà]
    漢字注音:
    ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ
    簡繁字形:
    次微米計劃
    是否常用:

    “次微米計畫”的意思

    基本解釋

    辭典解釋

    次微米計劃  cì wéi mǐ jì huà  ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ  

    次微米指小于一微米的半導體制作技術。民國七十九年,政府為建立完整之半導體產業,期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委托工研院電子所主導,并撥列經費以規劃籌建次微米實驗室,做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月,次微米計劃研發工作正式展開,為期五年(西元一九九○至一九九五年)?。整體計劃目標如下:(1)? 建立一座八吋晶圓,Class 0.1 (0.3微米)?的世界一流水準的實驗室,以提供開發次微米制程技術。(2)? 在一九九五年以前使中華民國具備:a. 0.7/0.5微米整合制程技術。b. 0.35 微米制程模組技術。(3)? 建立超潔凈技術及八吋晶圓量產型技術。(4)? 建立中華民國極大型積體電路(ULSI)?研究發展能力,并對世界IC研究發展的領域有所貢獻。

    網絡解釋

    “次微米計畫”的單字解釋

    】:1.次序;等第:名次。座次。車次。依次前進。2.次序在第二的;副的:次子。次日。3.質量差;品質差:次品。這個人太次,一點也不講究社會公德。4.酸根或化合物中少含兩個氧原子或氫原子的:次氯酸。5.用于反復出現或可能反復出現的事情:第一次國內革命戰爭。我是初次來北京。試驗了十八次才成功。6.出外遠行時停留的處所:途次。旅次。舟次。7.中間:胸次。言次。8.姓。
    】:1.細小;輕微:細微。微風。謹小慎微。相差甚微。2.(某些計量單位的)百萬分之一:微米。微安。微法。3.衰落:衰微。4.精深奧妙:微妙。微言大義。5.稍微;略微:微感不適。面色微紅。
    】:1.谷類或其他植物去了皮或殼的種子。特指稻米:小米。花生米。米飯。2.長度單位。1米等于光在真空中1/299792458秒的時間間隔內所經路徑的長度。是國際單位制中七個基本單位之一。
    】:同“”。
    】:1.劃分、區分。《左傳?襄公四年》:“芒芒禹跡,畫為九州。”《文選?顏延之?應詔讌曲水作詩》:“幙帷蘭甸,畫流高陛。”2.設計、籌謀。同“”。《文選?揚雄?解嘲》:“曾不能畫一奇,出一策。”清?孔尚任《桃花扇?第二十六齣》:“虧了夫人侯氏,有膽有謀,昨夜畫定計策。”3.繪圖:“畫一幅風景。”《晉書?卷九十二?文苑傳?顧愷之傳》:“愷之每畫人成,或數年,不點目精。”4.簽署、簽押:“畫押”、“畫供”。5.終止。《論語?雍也》:“力不足者,中道而廢,今女畫。”6.圖、圖像:“山水畫”、“人物畫”。宋?蘇軾《念奴嬌?大江東去詞》:“江山如畫,一時多少豪傑。”7.量詞。計算文字筆畫數的單位:“亞這個字有八畫。”8.姓。如明代有畫芳。9.清楚、整齊:“整齊畫一”。

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    * 次微米計畫的讀音是:cì wéi mǐ jì huà,次微米計畫的意思:辭典解釋次微米計劃  cì wéi mǐ jì huà     次微米指小于一微米的半導體制作技術。民國七十九年,政府為建立完整之半導體產業,期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委托工研院電子所主導,并撥列經費以規劃籌建次微米實驗室,做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月,次微米計劃研發工作正式展開,為期五年(西元一九九○至一九九五年)?。整體計劃目標如下:(1)? 建立一座八吋晶圓,Class 0.1 (0.3微米)?的世界一流水準的實驗室,以提供開發次微米制程技術。(2)? 在一九九五年以前使中華民國具備:a. 0.7/0.5微米整合制程技術。b. 0.35 微米制程模組技術。(3)? 建立超潔凈技術及八吋晶圓量產型技術。(4)? 建立中華民國極大型積體電路(ULSI)?研究發展能力,并對世界IC研究發展的領域有所貢獻。
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